Nhìn về phía trước: Canon nổi tiếng với máy in, máy ảnh và các sản phẩm hình ảnh khác được thiết kế cho cả người tiêu dùng và công nghiệp. Công ty Nhật Bản hiện đang áp dụng kiến thức sâu rộng về công nghệ quang học và hình ảnh để dấn thân vào lĩnh vực chuyên môn cao về thiết bị sản xuất chip tiên tiến.
Canon gần đây được giới thiệu FPA-1200NZ2C, một thiết bị “sản xuất chất bán dẫn in nano” được thiết kế đặc biệt để sản xuất vi mạch và các thành phần dựa trên chất bán dẫn khác bằng cách sử dụng các nút sản xuất mới nhất hiện có. Giải pháp sản xuất chip của Canon dường như mang lại khả năng tương tự cho các đối thủ cạnh tranh nhưng lại tiêu thụ điện năng thấp hơn đáng kể nhờ sử dụng công nghệ in nano.
Không giống như các hệ thống quang khắc truyền thống, kỹ thuật in thạch bản in nano (NIL) không dựa vào cơ chế quang học để truyền mẫu mạch lên tấm bán dẫn được phủ điện trở. Máy NIL của Canon đạt được kết quả tương tự bằng cách ấn một mặt nạ có in mẫu mạch lên điện trở của tấm bán dẫn, về cơ bản hoạt động giống như một con tem, như công ty mô tả.
FPA-1200NZ2C có thể xử lý khối lượng công việc tạo mẫu với băng thông tối thiểu là 14 nm, khả năng mà Canon tuyên bố có thể so sánh với nút sản xuất 5nm cần thiết để sản xuất “chất bán dẫn logic tiên tiến nhất” ngày nay. Canon dự đoán rằng, với những cải tiến liên tục trong công nghệ mặt nạ, kỹ thuật NIL sẵn sàng đạt được độ rộng đường truyền tối thiểu là 10 nm (tương đương với nút 2nm).
Thiết bị FPA-1200NZ2C mới cũng được trang bị công nghệ kiểm soát môi trường tiên tiến được thiết kế để giảm thiểu ô nhiễm hạt mịn. Do không yêu cầu nguồn sáng “đặc biệt” như máy in thạch bản cực tím (EUV), giải pháp NIL của Canon đặc biệt tiết kiệm năng lượng và có thể giảm đáng kể mức tiêu thụ điện năng, từ đó góp phần giảm lượng khí CO2.
FPA-1200NZ2C có khả năng sản xuất các mạch bán dẫn phức tạp với số lượng lớp không có khuyết tật ngày càng tăng nhờ công nghệ kiểm soát hạt mịn nói trên. Canon tuyên bố rằng máy móc này có thể được sử dụng cho nhiều ứng dụng, bao gồm cả kim loại cho các thiết bị thực tế mở rộng (XR) có cấu trúc vi mô trong hàng chục nanomet, cũng như các mạch logic trong CPU và nhiều thiết bị bán dẫn khác.
Theo ghi nhận của Pranay Kotasthane, chủ tịch của Viện Takshashila, in thạch bản nano là một kỹ thuật đã tồn tại hơn 20 năm. phỏng vấn với CNBC. Tuy nhiên, công nghệ này không đạt được lực kéo đáng kể, chủ yếu là do máy cực tím (EUV) do công ty ASML của Hà Lan sản xuất đã mang lại kết quả vượt trội cho các sản phẩm chip có độ phức tạp cao. Canon, công ty đã phát triển công nghệ NIL từ năm 2004, hiện đang dựa trên ý tưởng rằng giải pháp “rẻ hơn” này là “đủ tốt” để sản xuất các vi mạch tiên tiến một cách độc lập.